威亮光學(xué)開發(fā)出科研熱點(diǎn)材料，POSS多面體低聚倍半硅氧烷

發(fā)布時(shí)間:

2021-08-10

面體低聚倍半硅氧烷（POSS），又稱立方體烷，化學(xué)式為：（RSiO3/2）n，是一種分子水平上的納米級(jí)有機(jī)／無機(jī)雜化體，具有籠型結(jié)構(gòu)。目前，POSS合成的方法主要包括直接水解縮合法、部分縮合一頂角帶帽法、官能團(tuán)衍生法、側(cè)基轉(zhuǎn)化法、硅氫化反應(yīng)和籠型倍半硅氧烷的結(jié)構(gòu)重排等。

采用不同的合成方法可以制備出具有特殊官能團(tuán)的POSS，其化學(xué)性質(zhì)也多種多樣，并且由于其特殊的有機(jī)一無機(jī)結(jié)構(gòu)，POSS可以和多種聚合物形成分子級(jí)別的POSS/聚合物雜化材料。威亮光學(xué)采用自由專利技術(shù)，巳制備出多種型號(hào)的POSS結(jié)構(gòu)，終端用戶可以根據(jù)POSS所帶官能團(tuán)和聚合物的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，進(jìn)行POSS/聚合物雜化，或者和威亮光學(xué)一起共同開發(fā)，擴(kuò)展更多的POSS/聚合物的應(yīng)用。常見POSS／聚合物雜化材料的制備方法包括共聚法、接枝法、化學(xué)交聯(lián)法、共混法和原子轉(zhuǎn)移自由基聚合法（ARTP）等。

威亮光學(xué)開發(fā)的POSS（Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane）材料可以改善涂層：◆耐刮性；◆提供附著力；◆高透光率；◆提供耐熱性。

POSS結(jié)構(gòu)作為一種新型應(yīng)用材料，結(jié)構(gòu)立體、可以進(jìn)行聚合物雜化等特點(diǎn)，正被越來越多的應(yīng)用工程師青睞，威亮光學(xué)歡迎同各方應(yīng)用工程師一起探討POSS的更多應(yīng)用。